熔石英亞表面球形雜質(zhì)對入射光場的調(diào)制作用

摘要： 建立激光輻照下熔石英體內(nèi)球形雜質(zhì)引起元件損傷的模型?；贛ie理論計算雜質(zhì)的散射系數(shù),研究雜質(zhì)顆粒附近的調(diào)制光場分布,分析光強(qiáng)增強(qiáng)因子(LIEF)與雜質(zhì)折射率及半徑的關(guān)系。結(jié)果顯示,雜質(zhì)顆粒半徑小于40 nm時,所有類型雜質(zhì)對光場的調(diào)制作用可以忽略;顆粒半徑大于40 nm時,對于折射率小于熔石英的非耗散雜質(zhì),LIEF隨顆粒半徑的增大和折射率的減小而增大,且后向散射遠(yuǎn)強(qiáng)于前向散射;對于折射率大于熔石英的非耗散雜質(zhì),隨著折射率和半徑的增大,LIEF整體趨勢增大,局部達(dá)到102量級。對于耗散雜質(zhì),前向散射強(qiáng)度隨顆粒半徑的增大先增大后減小,當(dāng)顆粒半徑大于170 nm時,后向散射強(qiáng)于前向散射。 （共7頁）