類四方 BiFeO₃薄膜中新型極化拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)研究

摘要： 結(jié)合像差校正透射電子顯微術(shù)和精密脈沖激光沉積技術(shù)，本文研究了生長(zhǎng)在LaAlO₃襯底上的單層鐵電BiFeO₃薄膜中應(yīng)變調(diào)控和缺陷誘導(dǎo)的極化渦旋拓?fù)洚牻M態(tài)。HAADF-STEM成像揭示了薄膜中的層狀BiO~+面缺陷有助于穩(wěn)定疇壁面為(100)型的類180°疇結(jié)構(gòu)，并在這種新型的180°疇壁和LaAlO₃界面相交區(qū)域誘導(dǎo)形成了半渦旋和極化渦旋拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)。 （共9頁）