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Near-Axis TKD(NA-TKD)全新高靈敏TKD解決方案賦能CMOS-EBSD系統(tǒng)

電子顯微學(xué)報(bào) 頁(yè)數(shù)： 2 2024-08-15
摘要： <正>牛津儀器近期發(fā)布的Near-Axis TKD (NA-TKD)技術(shù)提供了全新的高靈敏度TKD解決方案。NA-TKD獨(dú)特的幾何結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與Symmetry S3有機(jī)結(jié)合,將TKD探測(cè)靈敏度提升10倍以上,同時(shí)保留了S3的所有優(yōu)勢(shì),可輕松應(yīng)對(duì)束流敏感材料和納米尺度結(jié)構(gòu)的高通量表征需求。 （共2頁(yè)）

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