導(dǎo)彈等離子體合成射流流動控制技術(shù)綜述與展望

摘要： 在反導(dǎo)技術(shù)不斷發(fā)展的背景下，為提高導(dǎo)彈的命中率，需要對導(dǎo)彈的機(jī)動性、快響應(yīng)性等提出更高的要求。近年來，由于響應(yīng)時(shí)間短、無機(jī)械部件、工作頻帶寬等優(yōu)勢，基于等離子體合成射流激勵(lì)器的主動流動控制技術(shù)成為兵器科學(xué)與技術(shù)以及航空航天領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。該技術(shù)在導(dǎo)彈的快響應(yīng)氣動力控制、橫向主流干擾控制、激波控制、激波/邊界層干擾控制等流動控制領(lǐng)域均展現(xiàn)出巨大的應(yīng)用前景，為減小導(dǎo)彈的阻力、提高導(dǎo)... （共15頁）