摘要： 針對高反光表面三維成像，提出了一種簡單、穩(wěn)健的自適應(yīng)條紋投影方法。該方法首先通過投影白色均勻圖案幫助確定過曝光區(qū)域，并提取該區(qū)域的邊界；然后將邊界映射到投影儀像素坐標(biāo)系，并降低該區(qū)域內(nèi)部的像素強(qiáng)度，重新生成一組亮度分布適應(yīng)樣品亮度分布的條紋圖；最后迭代重復(fù)上述步驟，直至所采集的圖中無過曝光區(qū)域。與以往采用多次曝光、自適應(yīng)投影、需要捕獲大量條紋圖像、操作繁瑣、計(jì)算復(fù)雜的成像方法相... （共10頁）