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氧化時(shí)間對微弧氧化非均質(zhì)陶瓷膜工頻擊穿特性的影響

高電壓技術(shù) 頁數(shù): 9 2024-02-22
摘要: 目前對微弧氧化陶瓷膜絕緣擊穿特性的研究多集中于改變工藝參數(shù)所產(chǎn)生的影響,對處于不同生長階段的陶瓷膜絕緣擊穿特性尚不清晰。為此,研究了陶瓷膜生長過程中工頻擊穿特性的變化規(guī)律及內(nèi)在作用機(jī)理。首先,以氧化時(shí)間為變量制備陶瓷絕緣導(dǎo)線樣品;其次,對陶瓷膜的表面與截面形貌、元素分布、物相組成等顯微特征進(jìn)行分析;進(jìn)一步采用雙參數(shù)Weibull分布法獲得陶瓷膜工頻擊穿特性隨著氧化時(shí)間的變化規(guī)律... (共9頁)

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